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論文

The Dependence of self-focusing of a high-intensity pulsed electron beam on gaseous media as studied by depth-dose distributions, 3; Hydrocarbons and halogenomethanes

新井 英彦; 堀田 寛

Radiat.Res., 64(3), p.407 - 415, 1975/03

 被引用回数:3

Febetron706からのパルス電子線の自己集束性をガス圧の関数として測定した。10Torr以下での低圧でのピンチから求めた全イオン化断面積はガスのモル電子分極に対応している。10~40Torrでのピンチの立上りより、二次電子とガスとの相互作用は次の順であると考えられる。CH$$_{4}$$$$<$$$$<$$C$$_{2}$$H$$_{6}$$$$<$$C$$_{3}$$H$$_{8}$$$$<$$C$$_{4}$$H$$_{1}$$$$_{0}$$$$<$$C$$_{5}$$H$$_{1}$$$$_{2}$$$$<$$C$$_{2}$$H$$_{6}$$$$<$$C$$_{2}$$H$$_{4}$$$$<$$C$$_{2}$$H$$_{2}$$、そしてCH$$_{4}$$$$<$$CH$$_{3}$$F$$<$$CHClF$$_{2}$$$$<$$CCl$$_{2}$$F$$_{2}$$

論文

The Dependence of self-focusing of a high-intensity pulsed electron beam on gaseous media as studied by depth-dose distributions, 1; Hydrogen and monatomic gases

堀田 寛; 田中 隆一; 須永 博美; 新井 英彦

Radiat.Res., 63(1), p.24 - 31, 1975/01

 被引用回数:6

H$$_{2}$$,D$$_{2}$$,He,Ne,Ar,Kr,Xe中でFebetron706からのパルス電子線の自己集束性をアルミニウム-ブルーセロファン積層線量計を用いて研究した。その結果、10Torr以下でのピンチの起こる圧から気体の全イオン化断面積が求められた。20Torr以上で再び起るピンチは二次電子の再結合係数と関係していることがわかった。さらに高圧では一次電子線の多重散乱のため発散する。

論文

The Dependence of self-focusing of a high-intensity pulsed electron beam on gaseous media as studied by depth-dose distributions, 2; Inorganic polyatomic gases

堀田 寛; 田中 隆一; 新井 英彦

Radiat.Res., 63(1), p.32 - 41, 1975/01

 被引用回数:7

N$$_{2}$$,O$$_{2}$$,N$$_{2}$$O,CO$$_{2}$$,SF$$_{6}$$中でFebetron706からのパルス電子線の自己集束性を研究した。10Torr以下の低圧ピンチの起こる圧から気体の全イオン化断面積が求められる。10~50Torrでのピンチの立上りの様相は二次電子と気体との相互作用、主として電子-イオン再結合反応で説明することができる。150Torr以上での一次電子線の挙動はこの自己集束作用の他に多重散乱を考慮して$$tau$$($$tau$$+1)M/Aの関数として統一的に説明できる。

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